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て<テク散歩帖 TFT-LCDに夢みる: TFT-LCDの高開口率化技術

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摘要

TFT-LCDの開口率と言えrnば,画素の中で透過率(反射率)rnを制御できる画素電極面積の全rn体に対する比で表される。このrn値を大きくすることは,画素電rn極面槙を大きくすることと同義rnである。逆に言えば,利用できrnない面積を小さくすることであrnる。rn従来の画素構造のままでrnは開口率の飛躍的な改善はrn困難なため,FSP(Field rn Shielded Pixel)構造と名rn付けた独自の画素構造を提rn案した。FSP構造では,rn画素電極は平坦化膜と呼ばrnれる低誘電率感光牲ポリマrnー上に形成されており,ドrnレイン電極とはコンタクトrnホールで接続される。
机译:说到TFT-LCD的开口率,它是由可以控制像素中的透射率(反射率)rn的像素电极面积与整个rn本体的比率表示的。增加该rn值与增加像素电荷rn极面rn是同义词。相反,这意味着减少无法使用的面积。传统的像素结构很难实现开口率的显着提高,因此我们提出了一种独特的像素结构,称为FSP(场屏蔽像素)结构。在FSP结构中,像素像素电极形成在被称为平坦化膜的低介电常数感光性聚合物rn上,并通过接触孔与漏极连接。

著录项

  • 来源
    《電子材料》 |2009年第7期|57-57|共1页
  • 作者

    鵜飼 育弘;

  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
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