机译:在高比例MOSFET中对阱边缘邻近效应进行建模
MOSFET; SPICE; ion implantation; semiconductor device models; surface collisions; technology CAD (electronics); CMOS wells; MOSFET; SPICE; TCAD simulations; compact model; ion implantation; ion scattering; well-edge proximity effect; CMOS wells; MOSFETs; SPICE model; hig;
机译:带有高掺杂多晶硅/氮化氧化物栅叠层的规模化MOSFET的偶极感应栅极泄漏减少
机译:高度可扩展的源极/漏极InAs量子阱MOSFET展示$ I _ {{scriptstyle {rm OFF}}} == 482〜mu {rm A} / mu {rm m} $ 100〜{rm nA} / mu {rm m} $和$ V_ {rm DD} = 0.5〜{rm V} $
机译:高选择性HBr蚀刻工艺用于制造三闸极纳米级SOI-MOSFET
机译:对高规模MOSFET的阱边缘邻近效应建模
机译:使用预测模型的超大规模MOSFET的缩放问题和解决方案。
机译:RE-Europe用于对高度可再生的欧洲电力系统进行建模的大规模数据集
机译:模拟mOsFET中机械应力对掺杂剂扩散的影响
机译:在Xaam-N-4黄鹂导弹的0.17尺度模型和比较飞机干扰对Xaam-N-2麻雀我导弹的0.17尺度模型飞机干扰风洞试验。第一部分导弹的F3H-1飞机的0.15尺模型的接近。