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机译:顶栅石墨烯场效应晶体管的界面态密度提取
Center for Emerging Electric Devices and Systems, School of Materials Science and Engineering, Gwangju Institute of Science and Technology, Gwangju, Korea;
Charge carrier processes; Current measurement; Discharges (electric); Field effect transistors; Graphene; Logic gates; Quantum capacitance; Discharge current analysis (DCA); Top gate graphene FET; discharge current analysis (DCA); graphene instability; interfacial trap density; interfacial trap density,; top gate graphene FET;
机译:金属氧化物-石墨烯场效应晶体管:界面陷阱密度提取模型
机译:通过接口工程实现高性能顶栅超薄HfS2场效应晶体管
机译:通过控制界面电荷实现的高性能顶层门碳纳米管场效应晶体管和互补金属氧化物半导体逆变器
机译:具有超薄顶栅电介质的栅电容缩放和石墨烯场效应晶体管
机译:支持石墨烯界面的基本研究:石墨烯场效应晶体管(FET)中缺陷密度和理想石墨烯 - 硅肖丝狄克二极管
机译:金属氧化物-石墨烯场效应晶体管:界面陷阱密度提取模型
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