机译:用于高级设备的光刻技术以及用于热点检测的集成CAD分析的介绍
MNNIT Allahabad, India;
MNNIT Allahabad, India;
NIT Delhi, India;
ultraviolet lithography; circuit CAD; field effect transistors; semiconductor materials;
机译:基于主成分分析-支持向量机分类器的分层数据聚类精确光刻热点检测
机译:使用先进的TCAD对28 nm高k /金属栅CMOS技术的结合RTA /激光退火条件的USJ形成进行过程和器件仿真
机译:电子束光刻和软光刻技术制造和集成聚合物集成光学器件
机译:FAA安全设备集成计划中部署了先进技术的爆炸物检测装置
机译:通过电子束光刻技术进行的分子剥离技术,用于分子电子设备。
机译:小于10 nm的胶体光刻技术用于电路集成自旋光电器件
机译:通过无掩模光刻技术制造基于聚合物的集成光子器件