Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography

Daniel P. Sanders

首页> 外文期刊>Chemical Reviews >Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography

【24h】

Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography

机译：193 nm浸没式光刻图形材料的研究进展

获取原文

获取原文并翻译 | 示例

掌桥外文数据库（机构版） >>

开具论文收录证明 >>

页面导航

著录项
相似文献
相关主题

著录项

来源
《Chemical Reviews》 |2010年第1期|p.321-360|共40页
作者
Daniel P. Sanders;
展开▼
作者单位

IBM Almaden Research Center, 650 Harry Road, San Jose, California 95136;

展开▼
收录信息美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);美国《化学文摘》(CA);
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类
关键词
入库时间 2022-08-17 23:24:39

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography [J] . Daniel P. Sanders Chemical Reviews . 2010,第1期

机译：193 nm浸没式光刻图形材料的研究进展
2. Synthesis of Fluorinated Materials for 193 nm Immersion Lithography and 157 nm Lithography [J] . T.Yamashita, T.Ishikawa, T.Yoshida, Journal of Photopolymer Science and Technology . 2005,第5期

机译：用于193 nm浸没式光刻和157 nm光刻的氟化材料的合成
3. Circular apertures for contact hole patterning in 193 nm immersion lithography [J] . C. J. Tay, C. Quan, M. L. Ling, Journal of Vacuum Science & Technology . 2011,第2期

机译：用于193 nm浸没式光刻中的接触孔图案化的圆形孔
4. Development of materials and processes for double patterning toward 32- nm node 193- nm immersion lithography process [C] . Shinji Tarutani, Hideaki Tsubaki, Shinichi Kanna Conference on Advances in Resist Materials and Processing Technology . 2008

机译：朝32-nm节点193-nm浸没式光刻工艺双图案化的材料和工艺的开发
5. Exploration of non-chemically amplified resists based on dissolution inhibitors for 193 nm lithography. [D] . Baylav, Burak. 2010

机译：探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂，用于193 nm光刻。
6. Programmable gradational micropatterning of functional materials using maskless lithography controlling absorption [O] . Yushin Jung, Howon Lee, Tae-Joon Park, -1

机译：使用无掩模光刻技术控制吸收率的功能材料的可编程渐变微图案
7. Status of High-Index Materials for Generation-Three 193nm Immersion Lithography [O] . Zimmerman Paul A., Peski Chris van, Rice Bryan, 2007

机译：用于第三代193nm浸没式光刻的高指数材料的现状

Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅