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Fine Particle Deposition in Laminar and Turbulent Flows

机译:层流和湍流中的细颗粒沉积

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摘要

On a mesuré la déposition de sphères fines de silice et de polystyrène par analyse d'images pour des conditions d'écoulement laminaire et turbulent (960 ≤ Re ≤ 16040) dans un canal rectangulaire. On a chargé positivement les surfaces de déposition du verre des plateaux en les revêtant d'un polymère cationique, tandis que, dans les conditions chimiques de l'eau employées, les deux sortes de particules étaient chargées négativement. On a trouvé que, contrairement aux résultats en écoulement laminaire, les vitesses de déposition initiales dans l'écoulement turbulent diminuent avec l'augmentation de Re, ce qui indique que le dépôt n'est plus contrôlé par le transfert de matière et que la fixation des particules joue un rôle croissant à mesure que Re est augmenté. On a modélisé la fixation comme un procédé à vitesse de transfert en série avec le transfert de matière, dans lequel la fixation varie de façon inverse avec le carré de la vitesse de friction. Dans les conditions utilisées ici, aucun re-entraînement des particules n'a été observé, de sorte que la vitesse décroissante d'accumulation des particules sur la paroi constatée lors de chaque expérience ne peut être attribuée qu'à une vitesse de déposition décroissante. Même lorsque des accumulations asymptotiques ont été atteintes, les couvertures obtenues n'ont jamais excédé 3,5%.%The deposition of fine silica and polystyrene spheres was measured for conditions of laminar and turbulent flow (960 ≤ Re ≤ 16040) in a rectangular channel using image analysis. The plate glass deposition surfaces were rendered positively charged by coating them with a cationic copolymer while, under the water chemistry conditions employed, both types of particles were negatively charged. It was found that, contrary to the results for laminar flow, the initial depositon rates in turbulent flow decreased with increasing Re, indicating that deposition was no longer mass-transfer controlled and that particle attachment played an increasingly important role as Re was raised. Attachment was modelled as a rate process in series with mass transfer in which the attachment rate varies inversely as the square of the friction velocity. Under the conditions of the present experiments, no particle re-entrainment was observed, so that the declining rate of particle accumulation on the wall recorded in each run could only be attributed to a declining deposition rate. Even where asymptotic accumulations were reached, particle coverages never exceeded 3.5%.
机译:通过图像分析测量矩形通道中的层流和湍流条件(960≤Re≤16040),从而测量二氧化硅和聚苯乙烯细球的沉积。通过用阳离子聚合物涂覆板的玻璃沉积表面使它们带正电,而在所用水的化学条件下,两种颗粒带负电。已经发现,与层流结果不同,湍流中的初始沉积速率随Re的增加而降低,这表明沉积不再受材料转移和固定的控制。随着Re的增加,颗粒扮演着越来越重要的角色。固定已被建模为与材料传递相联系的传递速度方法,其中固定与摩擦速度的平方成反比。在这里使用的条件下,没有观察到颗粒的再夹带,因此在每个实验中观察到的颗粒在壁上的堆积速度的下降只能归因于沉积速度的下降。即使达到渐近累积,所获得的覆盖率也不会超过3.5%。%。在矩形的层流和湍流(960≤Re≤16040)条件下,可以测量细的二氧化硅和聚苯乙烯球的沉积频道使用图片分析。通过用阳离子共聚物涂布使平板玻璃沉积表面带正电,而在采用的水化学条件下,两种类型的颗粒均带负电。已发现,与层流结果相反,湍流中的初始沉积速率随Re的增加而降低,这表明沉积不再受传质控制,并且随着Re的升高,颗粒附着起着越来越重要的作用。附着被建模为与传质串联的速率过程,其中附着速率与摩擦速度的平方成反比。在本实验的条件下,没有观察到颗粒再夹带,因此在每次运行中记录的壁上颗粒堆积的下降速率只能归因于沉积速率的下降。即使达到渐近累积,粒子覆盖率也不会超过3.5%。

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