机译:O_2和SF_6低压气氛下金刚石表面的同步辐射蚀刻
College of Education, University of the Ryukyus, Senbaru 1, Nishihara-cho, Okinawa 903-01, Japan;
机译:空心阴极反应离子刻蚀等离子体中SF_6 / CF_4,SF_6 / O_2和CF_4 / O_2气相的化学研究
机译:使用Langmuir探针和发射光谱技术研究中空阴极反应离子蚀刻反应器中SF_6和SF_6 / O_2等离子体。
机译:SF_6 / O_2反应离子刻蚀在硅太阳能电池微织构表面上的纳米织构工艺
机译:通过SF_6 / O_2等离子体中的Si衬底的表面纹理增强钻石成核
机译:低压等离子体中的辐射传输:照明和半导体蚀刻等离子体。
机译:使用XeF2作为反应气体的同步辐射辐照法对聚二甲基硅氧烷的蚀刻
机译:具有同步辐射的晶体中的前沿。利用同步辐射的各种性能。使用金刚石砧座电池在高压下测量X射线测量。