机译:石墨样品的不均匀性对其在辐照下形状变化的影响
机译:辐照引起的石墨尺寸变化:样品量的影响
机译:等温和非等温辐射下预测HTGR石墨性能变化的改进石墨损伤模型
机译:蒙特卡罗模拟计算校正系数的方法是对微创子的致不均匀辐射场中的样品进行光活化分析
机译:具有单相域电平交叉和28nm CMOS嵌入式非均匀数字信号处理器的16.7 A 40MHz-BW 76.2dB / 78.0dB SNDR / DR噪声整形非均匀采样ADC
机译:在石墨的氘离子辐照期间,SS壁上的同位素交换为含氢和氘的碳氢化合物。
机译:通过可膨胀石墨基阻燃涂层的阻燃剂基于石蜡的形状稳定相变材料
机译:改进的石墨损伤模型,以预测等温和非等热辐射下HTGR石墨岩的性能变化