机译:Sub-10 NM EUV光刻中的图案塌陷剪裁聚合物微观结构:多尺度模拟研究
Seoul Natl Univ Inst Adv Machines & Design Seoul South Korea|Seoul Natl Univ Sch Mech & Aerosp Engn Div Multiscale Mech Design Seoul South Korea;
Seoul Natl Univ Sch Mech & Aerosp Engn Div Multiscale Mech Design Seoul South Korea;
Hanyang Univ Dept Mech Engn Hanyangdaehak Ro 55 Ansan Gyeonggi Do South Korea;
Seoul Natl Univ Inst Adv Machines & Design Seoul South Korea|Seoul Natl Univ Sch Mech & Aerosp Engn Div Multiscale Mech Design Seoul South Korea;
Seoul Natl Univ Inst Adv Machines & Design Seoul South Korea|Seoul Natl Univ Sch Mech & Aerosp Engn Div Multiscale Mech Design Seoul South Korea;
Extreme ultraviolet lithography; Photoresist; Crosslink; Polymer patterning; Polymer deformation; Multiscale simulation;
机译:使用EUV干涉光刻的亚10纳米图案
机译:亚10 nm极端紫外光致抗蚀剂图案化的多尺度仿真方法:聚合物纳米级异质性见识
机译:用于探索光学化学工艺的多尺度模拟,以减轻EUV光刻中的接触孔的关键尺寸变化
机译:在EUV光刻中实现10nm半节距:抗蚀剂筛选和图案塌陷缓解技术的结果
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:亚10 nm特征铬光掩模用于方形金属环阵列的接触光刻构图
机译:DNA折纸驱动光刻技术,用于在金表面上以低于10 nm的分辨率进行图案化