机译:准分子激光烧蚀光刻技术在反射衍射光学器件的制造中的应用
Laboratoire des Systemes Photoniques, ENSPS, Boulevard Sebastien Brant, 67400 Illkirch-Graffenstaden, France;
diffractive optical elements; kinoforms; photoablation; photoresist; laser marking; interference microscopy; surface morphology;
机译:用于准分子激光烧蚀光刻的新型激光烧蚀剂。光化学性质对烧蚀的影响
机译:通过使用基于图像的准分子激光烧蚀来快速制造衍射光学元件
机译:通过使用基于图像的准分子激光烧蚀来快速制造衍射光学元件
机译:激光烧蚀光刻技术制备多级反射衍射光学元件
机译:衍射光学近场激光光刻技术,用于制造3维周期性纳米结构。
机译:在定制的跨上皮一步法浅表屈光准分子激光烧蚀中微调上皮的默认深度和烧蚀速率
机译:具有高分辨率的衍射光学器件的接触掩模元件的激光消融钼的薄膜
机译:用于脉冲激光沉积的准分子激光产生的消融等离子体的时间分辨诊断