机译:直流反应磁控溅射法制备二氧化钛薄膜的光学性能研究
Inst Super Engn Porto, Dept Fis, P-4200072 Oporto, Portugal;
Univ Minho, Ctr Fis, Braga, Portugal;
Univ Paisley, Thin Film Ctr, Paisley PA1 2BE, Renfrew, Scotland;
Jiao Tong Univ, Inst Optoelect, Beijing 100044, Peoples R China;
titanium oxide; thin films; ellipsometry; optical properties; sputtering; TIO2 THIN-FILMS; DEPOSITION; COATINGS;
机译:衬底温度对直流反应磁控溅射制备的结晶二氧化钛薄膜结构,形貌和光学性能的影响
机译:反应性直流磁控溅射制备氮掺杂二氧化钛薄膜的光电化学和光学性质
机译:衬底温度对直流反应磁控溅射技术制备锌氧化铝薄膜结构和光学性能的影响
机译:DC反应磁控溅射制备的氧化钛膜的光学性质
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:反应磁控溅射制备二元氧化铜薄膜的相变和物理性质
机译:无定形SnO2:TA薄膜的电气和光学性质,由DC和RF磁控溅射制备:对反应气体类型的影响进行系统研究