机译:浸没式光刻技术中水对光刻胶表面的影响
Tsukuba Laboratory, Sumika Chemical Analysis Service Ltd., 6, Kitahara, Tsukuba, Ibaraki 300 3266, Japan;
immersion lithography; photoresist; photoacid generator; tof-sims; xps; lc-ms;
机译:高折射率浸没式光刻中的流体-光刻胶相互作用和成像
机译:用于193nm浸没式光刻的无面漆光刻胶
机译:光刻:浸出式光刻胶开发面临的主要挑战是浸出,线边缘粗糙度,面漆
机译:了解ArF浸没光刻的光刻胶表面-液体界面
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:使用干涉光刻和硫族化物光刻胶对表面和薄膜进行纳米结构
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机译:用于波纹表面上共形光刻的电子沉积光刻胶的X射线曝光