机译:氢封端的Ge(100)表面的氧化机理
Department of Chemical Engineering, Yonsei University, 134 Shinchon-dong, Seodaemoon-gu, Seoul, 120-749, Republic of Korea;
germanium oxide; layer-by-layer; suboxide; ft-ir;
机译:多氧化还原四硫富瓦烯修饰的无氧化物氢封端的Si(100)表面
机译:多氧化还原四硫富瓦烯修饰的无氧化物的氢封端的Si(100)表面
机译:紫外诱导的4-乙烯基苄基氯在氢封端的Si(100)表面上的偶联,用于通过表面引发的ATRP制备定义良好的聚合物-Si杂化物
机译:浅析氢气封端硅表面的天然氧化物的生长
机译:在InAs(100)和GaAs(100)表面上高k金属氧化物原子层沉积过程中的表面化学和界面演化。
机译:氢封端的硅表面的AFM图像中的化学键对比指示
机译:氢封端的Si表面。氢原子在H封端的Si(100)表面的初始氧化过程中的作用。