机译:kHz AC大气压等离子体射流刻蚀光刻胶的实验研究
Xi An Jiao Tong Univ, State Key Lab Elect Insulat & Power Equipment, Xian 710049, Peoples R China;
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Atmospheric pressure plasma jet; Photoresist etching; Surface analysis; Etch rate;
机译:Ar /空气混合气体大气压等离子体射流刻蚀光刻胶材料的实验研究
机译:在大气压下通过100-MHz / 100kHz双频源驱动的Ar / CH4等离子体射流对碳膜生长的研究
机译:使用Ar / O_2和He / O_2大气压等离子体的光刻胶蚀刻
机译:大气压空气等离子体射流及其在光刻胶材料刻蚀中的应用
机译:非热大气压等离子体射流的实验研究。
机译:直接和远程大气压等离子射流处理聚苯乙烯的表面改性研究
机译:快速,从大气压等离子体射流的流出物中使用反应性氧物种去除光致抗蚀剂的下游去除
机译:氟碳等离子体中二氧化硅和光刻胶蚀刻的表征