机译:在线溅射系统中沉积的不锈钢氮氧化物薄膜的光电性能
Univ Zaragoza, Dept Appl Phys, C Pedro Cerbuna 12, E-50009 Zaragoza, Spain;
Univ Zaragoza, Dept Appl Phys, C Pedro Cerbuna 12, E-50009 Zaragoza, Spain;
Univ Zaragoza, Dept Appl Phys, C Pedro Cerbuna 12, E-50009 Zaragoza, Spain;
DC pulsed sputtering; Stainless steel oxynitride; Thin films; Optical properties; Industrial sputtering system;
机译:通过脉冲反应性气体溅射沉积的氧氮化钽薄膜的光学,电学和机械性能
机译:在Ar-N气体混合物RF溅射系统中沉积的氧氮化铝薄膜的光学,结构和电学特性
机译:反应磁控溅射沉积氧氮化钽薄膜的光学和机械性能
机译:反应磁控溅射沉积氧氮化钛薄膜:结构和物理机械性能
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:通过脉冲反应性气体溅射沉积的氧氮化钽薄膜的光学,电学和机械性能
机译:溅射沉积Gaas薄膜的电学特性。