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机译:适用于自由电子激光应用的铜和CsBr涂层铜光阴极的能量扩散和发射率测量的光发射三步模型的实验验证
SLAC Stanford National Accelerator Laboratory, Menlo Park, California 94025, USA;
机译:适用于自由电子激光应用的铜和CsBr涂层铜光阴极的能量扩散和发射率测量的光发射三步模型的实验验证
机译:在SPARC_LAB上对铜光电阴极进行纳米加工,表面分析和发射率测量
机译:铜光电阴极的本征发射率与射频场的关系的测量
机译:铜光电阴极的热发射率测量
机译:高分辨率砷化镓光发射电子源光发射电子源及其能量扩散测量
机译:激光烧蚀电感耦合等离子体质谱法精确测量威尔逊病的实验模型中的铜过载
机译:VUV和软X射线自由电子激光器FLASH(以前的VUV-FEL)是DESY \ ud的用户设施 (汉堡)。为了优化设施的性能,\ ud的准确表征 电子束特性至关重要。横向投影发射率,重要参数之一 表征电子束质量的方法是使用具有光学\ ud 过渡辐射监测仪。 1 udC光束的归一化均方根发射率低于2 mmmrad 测量。在本文中,我们描述了实验设置,数据分析方法以及当前\ ud 实验结果。
机译:适用于自由电子激光应用的铜和CsBr涂层铜光电阴极的能量扩散和发射测量的3步光电发射模型的实验验证。