机译:HfO2缓冲层对铁电栅场效应晶体管数据保留特性的影响
Tokyo Inst Technol, Precis & Intelligence Lab, Midori Ku, Yokohama, Kanagawa 2268503, Japan;
NONDESTRUCTIVE READOUT MEMORY; ELECTRICAL-PROPERTIES; THIN-FILMS; DEPOSITION; SILICON; SI;
机译:具有HfO_2缓冲层的铁电门极场效应晶体管中的30天长时间数据保留
机译:HfTaO缓冲层对非易失性存储应用中铁电门FET的数据保留特性的影响
机译:3.3V写入电压Ir / Ca0.2Sr0.8Bi2Ta2O9 / HfO2 / Si铁电栅场效应晶体管,具有10(9)的耐力和良好的保持能力
机译:具有HFO_2缓冲层的铁电栅场效应晶体管中的长时间数据保留和机制
机译:基于层状材料及其异质结构的场效应晶体管中的电荷传输。
机译:具有HfO2缺陷控制层的单壁碳纳米管为主的微米级条纹图案化铁电场效应晶体管
机译:铁电栅场效应晶体管AU / SBT / LZO / SI MFIS结构的特性
机译:al sub x Ga sub 1-x作为缓冲层对调制掺杂场效应晶体管性能的影响