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Phonon heat transport in silicon nanostructures

机译:硅纳米结构中的声子传热

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摘要

Phonon heat conduction is one of the critical research areas for nanoelectronics. The thermal conductivity of silicon nanostructures is studied to gain insight into heat conduction in silicon and related semiconductors. We experimentally show that phonon-boundary scattering results in a significant reduction in the thermal conductivity of crystalline silicon films of thickness below 100 nm at room temperature, which is consistent with the previously reported data for silicon nanowires. Analysis of the data suggests that phonon modes that dominate heat conduction in silicon are fully excited at temperatures substantially below the Debye temperature.
机译:声子导热是纳米电子学的重要研究领域之一。对硅纳米结构的热导率进行了研究,以了解硅和相关半导体中的热传导。我们实验表明,声子边界散射导致室温下厚度小于100 nm的结晶硅膜的热导率显着降低,这与先前报道的硅纳米线数据一致。数据分析表明,支配硅中热传导的声子模式在实质上低于德拜温度的温度下被完全激发。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2005年第15期|p.153106.1-153106.3|共3页
  • 作者

    Y. Sungtaek Ju;

  • 作者单位

    Department of Mechanical and Aerospace Engineering and Biomedical Engineering, Interdepartmental Program, University of California, Los Angeles, California 90095-1597;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;计量学;
  • 关键词

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