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机译:具有催化化学气相沉积法制备的具有Si_3N_4钝化膜的空气稳定型n型碳纳米管场效应晶体管
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
机译:带有化学催化气相沉积SiN_x钝化膜的碳纳米管场效应晶体管的电学表征
机译:高迁移率和空气稳定的单层WS 2 sub>场效应晶体管,夹在化学气相沉积生长的六方BN膜之间
机译:双频等离子体化学气相沉积Si_3N_4钝化对AlGaN / GaN异质结构场效应晶体管电学特性的影响
机译:具有聚焦离子束化学气相沉积制造的有机薄膜晶体管存储器,由聚焦离子束化学气相沉积制造
机译:薄膜催化剂和基材在碳纳米管的CCVD(催化化学气相沉积)生长上相互作用。
机译:高迁移率和空气稳定的单层WS2场效应晶体管夹在化学气相沉积生长的六角形BN膜之间
机译:高迁移率和空气稳定的单层WS2场效应晶体管夹在化学气相沉积六方BN膜之间
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积(CVD)技术的比较研究。