机译:由于消耗了硅电容,导致SiGe和SiGeC表面沟道p型金属氧化物半导体场效应晶体管中低频噪声的降低
机译:在块状Si和PD-SOI衬底上生长具有应变Si_(0.88)Ge_(0.12)沟道的p型金属氧化物半导体场效应晶体管的低频噪声特性
机译:浅Si / SiO_2界面状态对n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中高频沟道噪声的作用
机译:低频噪声和随机电报噪声表征对退火工艺对高k /金属栅n沟道金属氧化物半导体场效应晶体管陷阱性质的影响
机译:纳米级金属氧化物半导体场效应晶体管中低频噪声的紧凑模型
机译:应变对硅和锗p型金属氧化物半导体场效应晶体管的空穴迁移率的影响
机译:基于Ω型栅极有机铁电P(VDF-TrFE)场效应晶体管的低可编程电压非易失性存储器件使用p型硅纳米线通道
机译:低频噪声测量监测的InAlN / AlN / GaN异质结构场效应晶体管的性能下降:热声子效应