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Single step, complementary doping of graphene

机译:一步法石墨烯的互补掺杂

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摘要

A single-step doping method capable of high resolution n- and p-type doping of large area graphene is presented. Thin films of hydrogen silsesquoxane on exfoliated graphene are used to demonstrate both electron and hole doping through control of the polymer cross-linking process. This dual-doping is attributed to the mismatch in bond strength of the Si-H and Si-O bonds in the film as well as out-gassing of hydrogen with increasing cross-linking. A high-resolution graphene p-n junction is demonstrated using this method.
机译:提出了一种能够对大面积石墨烯进行高分辨率n型和p型掺杂的单步掺杂方法。剥落石墨烯上的氢硅倍半氧烷薄膜用于通过控制聚合物交联过程来证明电子和空穴掺杂。这种双重掺杂归因于膜中Si-H和Si-O键的键强度不匹配以及随着交联的增加氢气的放气。使用此方法演示了高分辨率的石墨烯p-n结。

著录项

  • 来源
    《Applied Physicsletters》 |2010年第6期|063104.1-063104.3|共3页
  • 作者单位

    Nanotechnology Research Center, Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332, USA;

    Nanotechnology Research Center, Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332, USA;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
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