机译:反应磁控溅射过程中双S形工艺曲线的存在
Department of Solid State Sciences, Ghent University, Krijgslaan 281 (S1), 9000 Gent, Belgium;
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机译:Ti溅射靶的氧化水平对无功大功率脉冲磁控溅射工艺行为的影响
机译:使用各种靶材-反应气体组合研究反应性高功率脉冲磁控溅射工艺
机译:N_2流量对反应磁控溅射(CrTaTiVZr)N_x涂层结构和力学性能的影响
机译:氧化铟锡反应性和非反应磁控溅射工艺的离子分析
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:在反应微波溅射过程中存在双s形工艺曲线