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机译:杂化分子层沉积法在电化学应用中生长的结构稳定的烷氧基锰薄膜
Stanford Univ Dept Chem Engn 443 Via Ortega Stanford CA 94305 USA;
Stanford Univ Dept Chem 443 Via Ortega Stanford CA 94305 USA;
Appl Mat Inc 974 East Ave M-S 81280 Sunnyvale CA 94085 USA;
catalysis; functional coatings; hybrid materials; surface modification; thin films;
机译:分子层沉积生长的有机-无机混合杂种酮糖膜中的分子内和分子间相互作用。
机译:后退火对原子层沉积生长氧化锰薄膜的结构,电学和光学性质的影响
机译:使用原子/分子层沉积杂交技术在柔性基板上生长掺杂氧化锌氧化锌 - 锌 - 锌氧化锌多层薄膜机械可靠性的影响
机译:金属气相化学沉积法通过高温AlN成核层生长在R平面蓝宝石上的非极性A平面甘薄膜的结构和光学表征
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:电化学电容器应用石墨板上的锰-氧化镍薄膜的电沉积
机译:通过混合分子层沉积的结构稳定的锰醇膜用于电化学应用
机译:使用分子层沉积生长的混合有机无机膜