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USE OF NOVEL METHODS FOR THE INVESTIGATION OF THE BORON DISTRIBUTION IN CVD DIAMOND

机译:使用新颖的方法研究CVD金刚石中硼的分布

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摘要

Previous work on boron-doped CVD diamond films has indicated inhomogeneity of boron dis- tribution. A variety of methods has been used to investigate the nature of these inhomogeneities. The methods used include electron irradiation in a transmission electron microscope followed by helium cooled microscopic photoluminescence studies, imaging SIMS and micro-Raman imaging. A number of sharp B- related photoluminescence lines has been identified and found to vary considerably from one location to another. This evidence of inhomogeneity is confirmed by B mapping using imaging SIMS and micro- Raman microscopy.
机译:先前在掺硼CVD金刚石薄膜上的工作表明硼分布不均匀。已经使用多种方法来研究这些不均匀性的性质。所使用的方法包括在透射电子显微镜中进行电子辐照,然后进行氦冷却的显微光致发光研究,SIMS成像和显微拉曼成像。已经鉴定出许多尖锐的B相关的光致发光线,发现它们从一个位置到另一个位置有很大的不同。通过使用成像SIMS和显微拉曼显微镜进行B映射可以证实这种不均匀的证据。

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