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Selective Purcell enhancement of two closely linked zero-phonon transitions of a silicon carbide color center

机译:选择性赛尔增强碳化硅色心的两个紧密链接的零声子跃迁

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摘要

Point defects in silicon carbide are rapidly becoming a platform of great interest for single-photon generation, quantum sensing, and quantum information science. Photonic crystal cavities (PCCs) can serve as an efficient light–matter interface both to augment the defect emission and to aid in studying the defects’ properties. In this work, we fabricate 1D nanobeam PCCs in 4H-silicon carbide with embedded silicon vacancy centers. These cavities are used to achieve Purcell enhancement of two closely spaced defect zero-phonon lines (ZPL). Enhancements of >80-fold are measured using multiple techniques. Additionally, the nature of the cavity coupling to the different ZPLs is examined.
机译:碳化硅中的点缺陷正迅速成为单光子生成,量子感测和量子信息科学的重要平台。光子晶体腔(PCC)可以用作有效的光-物质界面,以增加缺陷的发射并有助于研究缺陷的性质。在这项工作中,我们在具有嵌入式硅空位中心的4H碳化硅中制造了一维纳米束PCC。这些空腔用于实现两条紧密间隔的缺陷零声子线(ZPL)的赛尔增强。使用多种技术测量> 80倍的增强。另外,检查了耦合到不同ZPL的空腔的性质。

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