阿比特龙工艺杂质研究

摘要

cqvip:为控制阿比特龙质量,分别以去氢表雄酮和二乙基(3-吡啶基)硼烷为起始物料,经过缩合、碘代、Suzuki偶联反应得到阿比特龙。生产过程中易产生工艺杂质A、杂质B、杂质C、杂质D、杂质E及杂质F,通过核磁及质谱对杂质进行结构确证,并对杂质产生的原因进行分析,为阿比特龙工业化生产提供技术支持。