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热扩散阴极微区热电子发射特征研究

         

摘要

在微米尺度开展热扩散阴极热电子发射特征研究,对了解阴极电子发射过程和理解阴极发射机理有一定的参考价值.本文利用深紫外激光光发射/热发射电子显微镜系统,对浸渍钡钨阴极、覆膜浸渍扩散阴极、浸渍钪酸盐阴极以及新型浸渍钪型阴极,开展了光电子、热电子显微成像分析.结果 显示,浸渍钡钨阴极的热电子发射区域主要位于表面局部孔隙中;覆膜浸渍扩散阴极的电子发射区域沿孔隙向覆膜的钨颗粒表面延伸,阴极发射面积明显增加;浸渍钪酸盐阴极与新型浸渍钪型阴极表面拥有一定数量的高发射点,浸渍钪酸盐阴极的高发射点几乎都分布在阴极表面的钨颗粒边缘,而新型浸渍钪型阴极的高发射点不仅存在于钨颗粒边缘,同时也出现在部分钨颗粒表面.

著录项

  • 来源
    《真空电子技术》 |2019年第3期|33-37|共5页
  • 作者单位

    中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室;

    北京100190;

    中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室;

    北京100190;

    中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室;

    北京100190;

    中国科学院大学;

    北京100039;

    中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室;

    北京100190;

    中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室;

    北京100190;

    中国科学院电子学研究所高功率微波源与技术实验室;

    北京100190;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 阴极电子学;
  • 关键词

    热扩散阴极; 光发射电子显微镜; 热发射电子显微镜;

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