首页> 中文期刊> 《传感器与微系统》 >微系统技术(连载三)—光刻工艺

微系统技术(连载三)—光刻工艺

     

摘要

简要介绍了“三色”双光掩膜光刻工艺、廉价一步光刻方法和阴影投射光刻工艺。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号