甲烷氛围下正庚烷低温氧化特性

摘要

利用射流搅拌反应器研究了不同摩尔分数甲烷氛围中正庚烷在0.1 MPa、500～750K条件下的低温氧化特性,当量比和滞留时间分别为0.5和1.4s;分析了重要组分摩尔分数随反应温度的变化规律,研究了甲烷对正庚烷低温氧化的物理和化学作用及正庚烷低温氧化过程的化学动力学特性.结果表明:甲烷摩尔分数较低时甲烷表现出惰性,其对正庚烷低温氧化的物理作用与氮气相当;当甲烷摩尔分数达到70％时,甲烷从化学反应角度抑制了正庚烷的低温氧化.正庚烷低温氧化主要与含氧组分相关的反应路径有关,后续氧化以CO、烯烃、醛与醚等含氧物质的反应为主.甲烷主要通过与正庚烷竞争OH而抑制其氧化,甲烷摩尔分数的提高促进了 CH3生成,从而使甲醇摩尔分数上升.