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张鑫;
中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津 300220;
氮化镓; 二次离子质谱; 离子注入; 相对灵敏度因子;
机译:聚焦镓离子束飞行时间二次离子质谱仪分析钢中硼的晶界偏析/析出
机译:在二次离子质谱深度分析期间,在GaAs / Algaas中的电活性和氢钝化Zn在二次离子质谱深度分析中
机译:飞行二次离子质谱(TOF-SIMS)和电子探针微分析(EPMA)时红色泥浆中钪和镓的表征
机译:氮化硼和氮化镓材料中的反应离子蚀刻Cl_2 / Ar和Bcl_3 / Cl_2 / Ar化学物质中的氮化镓材料
机译:使用依赖于深度的阴极发光光谱法和二次离子质谱法研究氮化铝镓膜和镍/氮化铝镓肖特基二极管。
机译:氮化镓等离子增强原子层沉积对氮化镓基高电子迁移率晶体管的氮化铝表面钝化
机译:通过使用镓聚焦离子束二次离子质谱法中钢中非金属夹杂物的单独分析
机译:使用磁性扇区二次离子质谱(sIms)仪器分析III族氮化物 - 砷化物材料中的氮掺入:预印。
机译:二次离子质谱法样品及上述方法中的二次离子质谱法中分析部分的规定方法
机译:液态金属离子源,二次离子质谱仪,二次离子质谱仪分析方法及其用途
机译:液态金属离子源,二次离子质谱仪,二次离子质谱分析程序及其应用
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