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陈双扣; 郭莉萍; 朱建芳; 李丹; 王月;
重庆科技学院化学系,中国重庆400050;
印制电路板; 酸性氯化铜; 蚀刻;
机译:从废铜蚀刻液中回收氯化铜的机理研究
机译:酸性硅蚀刻液的化学分析
机译:酸性硅蚀刻液的化学分析I.硝酸滴定法测定HNO3,HF和H2SiF6
机译:基于氯化铜基氯化铜氯化铜汞排放控制的异质氧化
机译:基于第一性原理的布朗斯台德和路易斯酸性沸石催化呋喃催化转化为芳烃的动力学模型
机译:940nm二极管激光辐照对蚀刻液和冲洗粘合剂(单键2)与牙本质的微拉伸粘合强度的影响
机译:酸性氯化铜印刷电路板蚀刻剂的电解再生。最终报告,1995年8月1日 - 1996年10月31日
机译:由氯化铜,硫酸铜和氯化铜铵废蚀刻液同时处理的无机氯化物以及无机铜化合物的制造,以及使用它们的无机氯化物和无机铜化合物的制造
机译:含氯化铜的蚀刻液再生-通过氧化氯化亚铜并使用部分氯化铜回收氯化氢和氧气
机译:质量影响因素分析方法,质量预测方法,质量控制方法,质量影响因素分析装置,质量预测装置,质量控制装置,质量影响因素分析系统,质量预测系统,质量控制系统和计算机程序
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