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我国'十五'期间IC制造装备的发展战略研究

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本文将通过世界IC工艺装备的发展趋势和国内现状的分析,从十五"863"重大专项的角度,对我国的IC装备发展战略进行探讨.提出以10nm的光刻机等关键设备为战略目标,以自主技术创新突破和产业化为目的,实现我国IC装备技术和产业的跨越式发展.

著录项

来源
《机器人技术与应用》 |2002年第2期|5-9|共5页
作者
汪劲松; 朱煜;
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作者单位

清华大学制造工程研究所;

清华大学制造工程研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类微电子学、集成电路（IC）;
关键词
集成电路; 制造装备; 光刻机; 发展战略; 工艺;

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