大联大品佳集团力推NXP全新矩阵式头灯解决方案

摘要

新思科技数字和定制设计平台通过了TSMC最先进的5nm EUV工艺技术认证。该认证是多年广泛合作的结果,旨在提供更优化的设计解决方案,加快下一代设计的发展进程。Design Compiler Graphical综合工具经过了严格的5nm启用验证,并证明了与IC CompilerTM II布局布线工具在时序、面积、功耗和布线拥塞方面的相关一致性。Design Compiler Graphical 5nm创新技术可以实现最佳性能、最低功耗和最优面积,这些新技术包括过孔支柱优化、多位库和引脚接入优化。