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李杨; 王文林; 薛兵; 高航;
中国电子科技集团公司第四十六研究所 天津 300220;
CCD成像器件; 硅外延片; P型高阻; 变流量吹扫; 赶气温度;
机译:氮掺杂的P型Znse,P型Zns_yse_(1-y)和P型Zn_(1-x)mg_xs_yse_(1-y)外延受体的激子和给体-受体对的活化能Gaas(1 0 0)衬底上生长的薄膜
机译:分子束外延生长的n型和p型基于PbTeSe的热电材料通过改进的接触金属化获得的高输出功率密度
机译:汞敏化光化学气相沉积方法在CCD成像器件上的氢化非晶硅光转化层中的应用
机译:分子束外延生长外延汞碲化镉薄膜中砷的掺入和P型掺杂的研究。
机译:基于P型4H-SiC外延层的压阻特性定量分析。
机译:外延剥离法:III / V材料和HF蚀刻工艺研究
机译:CVD siC外延层中n型和p型掺杂剂控制的场地竞争外延
机译:用其他普通廉价的CCD器件制造高帧速CCD成像器件的方法
机译:具有通过多个外延头增加表面积的外延材料的混合N / P型鳍式半导体结构
机译:液相外延半导体工艺研究
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