Fabrication and characterization of iron and iron carbide thin films by plasma enhanced pulsed chemical vapor deposition

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• 来源
  《等离子体科学和技术（英文版）》 |2019年第10期|54-60|共7页
• 作者

  Yulian HU; Xu TIAN; Qipeng FAN; Zhengduo WANG; Bowen LIU; Lizhen YANG; Zhongwei LIU;

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• 作者单位

  Laboratory of Plasma Physics and Materials Beijing Institute of Graphic Communication Beijing 102600 People's Republic of China;

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