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楚山;
无;
蚀刻; 中性束; 半导体器件;
机译:未来纳米级设备的终极自顶向下蚀刻工艺:先进的中性束蚀刻
机译:低角度前向反射中性束蚀刻系统中中性物质的诊断
机译:使用扫描内部光发射显微镜对由GaN表面上的中性束蚀刻引起的损伤进行映射
机译:中性粒子束蚀刻对Ge蚀刻机理的检查
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:通过使用生物纳米模板通过中性束蚀刻制造的硅纳米盘阵列中的波函数耦合而诱发的皮秒载流子动力学
机译:通过超高温中性束进行半导体蚀刻
机译:使用中性束轻松控制中性束方向并提高蚀刻率的半导体器件蚀刻装置
机译:使用中性束蚀刻装置的蚀刻方法
机译:使用中性束的逐层蚀刻装置及其蚀刻方法
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