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O2和SO2／O2低压等离子体的干蚀刻技术

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来源
《等离子体应用技术快报》 |1995年第11期|6-7|共2页
作者
刘赓胥;
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作者单位

无;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类 TN405.982;
关键词
氧; 等离子体; 离子蚀刻; 印刷电路;

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