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胡刚;
无;
强离子; 薄膜沉积 ; 高速 ; 强离子; 电子轰击;
机译:通过化学气相沉积生长石墨烯的比较表征,转移到非导电基板,并使用X射线光电子和拉曼光谱进行AR离子轰击
机译:电子束蒸发和氮离子轰击沉积的CN {sub} x薄膜的X射线光电子能谱表征
机译:电子束蒸发沉积的ZnO薄膜:离子轰击的作用
机译:使用线性等离子体源以很高的激发频率(80-140 MHz)进行硅薄膜层的高速沉积
机译:对III-V族化合物半导体的等离子退火(等离子沉积,硅氮化物,离子注入)进行俄歇电子和X射线光电子能谱研究。
机译:通过等离子化学气相沉积高速率和大面积外延硅膜的沉积
机译:苯基锡和苯基铅卤化物的一些Hmpa加合物的比较电子轰击和快速原子轰击质谱研究以及FaB-ms对强氢键的研究
机译:用于等离子体蚀刻和沉积半导体的分子的电子轰击分散
机译:切削刀具带有α氧化铝表面涂层,通过真空沉积,然后使用等离子体中的稀有气体进行离子轰击,具有晶体结构
机译:硼基薄膜在真空下的沉积包括离子轰击,例如离子轰击。在玻璃基板上提供多种功能,可用于汽车用建筑玻璃
机译:用于过滤带电粒子的装置,能量过滤器,使用这种能量过滤器的分析仪,电子轰击离子源以及使用所述电子轰击离子源的分析仪
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