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王惠三;
无;
FAD; TiN薄膜; IAAD; 薄膜沉积; 过滤阴极弧;
机译:沉积条件对过滤阴极真空电弧技术制备的TiN薄膜性能的影响
机译:过滤阴极电弧技术沉积TiN薄膜
机译:TiN薄膜阴极弧物理气相沉积中的宏滴减少和生长机理
机译:过滤阴极电弧过程中的高能凝结沉积TiN薄膜
机译:高温下带过滤阴极真空电弧沉积的ta-C涂层的摩擦学性能和机理
机译:硅浓度对使用阴极弧蒸发沉积的Al-Cr-Si-N涂层性能的影响
机译:通过过滤的阴极真空弧沉积沉积的金刚石状碳涂层的光学和力学性能
机译:新千年伊始的阴极弧沉积技术综述
机译:阴极弧蒸气沉积近似阴极
机译:阴极弧蒸气沉积装置(环形阴极)
机译:真空弧蒸气沉积方法,真空弧蒸气沉积设备以及使用真空弧蒸气沉积方法制造的薄膜和物品
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