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欣安;
无;
涂层; 氮化硼; 立方相; 等离子体蚀刻;
机译:等离子体蚀刻过程的动力学研究。二。射频等离子体蚀刻反应器中电子性质的探针测量
机译:平行氮化硼纳米带和通过催化蚀刻形成的蚀刻轨迹
机译:热丝辅助射频等离子体化学气相沉积法制备氮化硼薄膜的应力和应变分析
机译:六方氮化硼/石墨烯异质结构,六方氮化硼层和立方氮化硼纳米点的分子束外延生长
机译:自蚀刻裂缝密封胶与传统裂缝密封胶与全蚀刻或自蚀刻粘合剂系统的微泄漏比较
机译:通过射频等离子体辅助化学气相沉积法在晶体硅上生长的高取向六方氮化硼薄膜的微观结构
机译:用于结构应用的射频等离子体合成氮化硼纳米管(BNNTs)。
机译:具有改进的电极的用于射频等离子体蚀刻的设备以及使用该设备的蚀刻方法
机译:材料图案例如氮化硼材料图案,集成电路的形成方法,包括通过蚀刻掩模蚀刻覆盖层以形成突出图案,以及通过覆盖层蚀刻材料层以形成材料图案。
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