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一弓;
无;
等离子体 ; 绝缘膜 ; 半导体器件 ; CVD ; 高密度 ;
机译:高密度Kr / O {sub} 2混合等离子体低温辐照形成氧化硅膜和CVD氧化硅膜的质量研究
机译:低温下高密度Kr / O} 2混合等离子体施加氧化硅膜的质量,CVD氧化硅膜在低温下施用
机译:用Mirowava用新型等离子体CVD设备使用新型等离子体CVD装置,用新型等离子体CVD装置进行DLC涂覆内表面的摩擦学性质
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:绝缘直接合成大面积石墨烯微波等离子体CVD在低温下处理基板
机译:钻石电影的特殊问题/沉积方法,表征和应用。使用磁性活性等离子体CVD和微波等离子体CVD沉积金刚石膜。
机译:高密度气体绝缘等离子体边界层局部漂移模式的稳定性
机译:层间绝缘膜,防扩散膜及其源材料,膜形成方法和用于形成膜的等离子体CVD装置
机译:具有由BPSG膜和等离子体CVD氮化硅膜构成的绝缘层的半导体装置的制造方法
机译:由于等离子体CVD而进行的堆积膜的形成方式,利用该电极形成有用于产生等离子体的高频电极的等离子体CVD装置为零。
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