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李丁;
无;
半导体; 等离了体浸没离子植入; 溅射沉积; RF; DC;
机译:与r.f.结合使用的原位或顺序等离子体浸没离子束处理设备溅射沉积或三极管d.c.溅射沉积
机译:在三极管磁控溅射系统中模拟氮化钛的反应溅射沉积
机译:溅射沉积Zn前驱体膜厚和退火时间对金属靶顺序反应溅射沉积Cu2ZnSnS4薄膜性能的影响
机译:薄膜溅射沉积中溅射沉积溅射沉积溅射沉积
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:镧的非反应性溅射沉积和氮化镧的反应性溅射沉积过程中结构形成的原位和实时监测
机译:用于10 exp -4 Torr范围内薄膜沉积的三极管RF溅射系统
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
机译:射频(RF)-溅射沉积源,用于对溅射沉积源进行改造的连接器,装置及其操作方法
机译:溅射沉积源,溅射沉积设备和用于为溅射沉积源供电的方法
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