利用等离子体浸没技术进行高剂量纯金属离子注入

机译：直流等离子体浸没离子注入技术的进展以及等离子体浸没离子注入和沉积技术的最新应用

机译：增强辉光放电等离子体浸没离子注入和沉积过程中的等离子体鞘层物理性质和剂量均匀性

机译：等离子体浸没离子注入的有限鞘碰撞及其对冲击能和剂量均匀性的影响

机译：使用过滤的直流真空电弧等离子体进行高频短脉冲金属等离子体浸没离子注入（第二部分）

机译：通过等离子体注入氧气和等离子体浸没离子注入进行分离，以形成绝缘体上硅。

机译：等离子体浸没离子注入技术对金刚石中氮空位色中心浅层的工程化

机译：利用磁镜几何学研究等离子体浸没离子注入硅衬底

机译：通过等离子体浸没离子注入和沉积增加保留剂量

机译：等离子体浸没离子注入剂量测量装置

机译：等离子体浸没离子注入的离子剂量测量装置

机译：等离子体浸没离子注入的剂量测量装置