空心阴极放电沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质

杨平; 冯贤平; 施芸城; 闫永辉

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空心阴极放电沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质

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利用空心阴极放电等离子体源在Si(100)衬底上沉积了氮化碳薄膜. 用XRD,SEM,XPS及拉曼和红外吸收光谱对薄膜的结构、成分和化学键等进行了研究. XRD分析表明,制备的氮化碳薄膜为非晶结构. XPS分析证实了薄膜中以C-C,sp2CN和sp3CN键为主,并得出薄膜中的氮碳比为0.71,而sp3-CN相的含量也达到了0.39. 拉曼和红外吸收光谱的结果也与XPS分析的键态结果一致.

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来源
《物理实验》 |2005年第9期|13-16|共4页
作者
杨平; 冯贤平; 施芸城; 闫永辉;
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作者单位

东华大学,材料科学与工程学院,上海,200051;

波多黎各大学,物理系,圣胡安,00931-3343;

东华大学,物理系,上海200051;

东华大学,物理系,上海200051;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
氮化碳薄膜; 直流空心阴极放电; XPS; 拉曼光谱; 红外吸收光谱;

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