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邢杰; 卫会云; 张笑妍; 巩毛毛; 周惟公; 吴秀文; 赵长春;
中国地质大学(北京)矿物岩石材料开发应用国家专业实验室;
材料科学与工程学院,北京,100083;
中国地质大学(北京)材料科学与工程学院,北京,100083;
TiO2薄膜; 金红石; 锐钛矿; 射频磁控溅射; 退火;
机译:浸涂速度和退火温度对溶胶-凝胶纳米结构TiO2薄膜的结构,形貌和光学性质的影响
机译:SILAR法合成TiO2薄膜并研究退火对结构,形貌和光学性质的影响
机译:退火温度对溶胶-凝胶法合成并沉积在Al / TiO2 / SiO2 / p-Si上的TiO2薄膜的形貌,光学和电学性质的影响
机译:退火对ZNO-CNTs纳米复合薄膜的结构,形貌和光电特性的影响
机译:H:TiO2纳米粒子,TiO2-MOS2纳米复合材料和TiO2-BIVO4核心壳纳米粒子结构的结构,光学和光电化学性质
机译:热退火对HFCVD合成高孔隙率A-WO3薄膜结构和形貌特性的影响
机译:退火对纳米晶TiO2薄膜结构,形貌,电学和光学性质的影响
机译:表面形貌对厚膜溅射薄膜结构生长的影响
机译:用于同时确定表面形貌和材料特性的光学形貌计,其中在椭圆偏角之外,还逐点确定表面高度
机译:具有光伏特性的薄膜的生产,包括沉积交替的I / III或III / I多层结构并退火所述结构
机译:光学活性微结构的生产,例如透镜,包括在基底上机械形成光学活性表面形貌,通过光刻法掩盖形貌,以及通过蚀刻使之平滑
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