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芯片 ; EUV; 紫外线光雕刻;
机译:平版印刷:EUV的替代品有哪些?对EUV寄予厚望,但长期的拖延已引起人们对转向其他选择的关注。
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:IBM测试芯片首先在2NM时:EUV光刻缩小了门 - 全面纳米片晶体管
机译:通过EUV图案晶片的全芯片光学检测可打印EUV掩模吸收器缺陷和缺陷加法器
机译:在计算极限时进行密集,高效的芯片间通信。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:使用台式EUV指纹图谱对接近波长极限的表面进行高对比度3D成像
机译:光化掩模成像:sHaRp EUV显微镜的最新结果和未来方向。会议:极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:期刊出版日期:2014年4月17日。
机译:芯片卡模块和用于防止芯片模块弯曲的装置,该模块基于加固框架,该加固框架设计为在固定位置弯曲,从而在超过弯曲力极限时保护芯片
机译:有关污染极限和EUV投影曝光系统的晶圆检查方法
机译:用于检查晶片的污染极限的方法和EUV投射曝光系统
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