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谢伦;
中国科学院长春光学精密机械研究所;
中国科学院物理研究所;
超精密抛光; 表面粗糙度; LiGaO2; 晶体; 氮化镓;
机译:用于高科技零件的超精密抛光技术-消除应力和超精密抛光:晶体的超薄化和超精密抛光
机译:用于高科技零件的超精密抛光技术-应力消除和超精密精加工:晶体晶片的超精密抛光
机译:用于高科技零件的超精密抛光技术-消除应力和超精密抛光:带包装/抛光材料的超精密抛光
机译:KDP晶体微细水雾微滴定超精密抛光的实验研究
机译:薄膜晶体管应用的多晶硅/电介质/衬底材料系统:材料特性对晶体管性能和可靠性的影响。
机译:水溶性超精密抛光法加工的磷酸二氢钾(KDP)光学晶体的激光损伤
机译:使用集成的超精密抛光工艺和不同抛光轨迹进行表面生成的实验研究
机译:GaN功率电子器件:从GaN-on-si横向晶体管到GaN-on-GaN垂直晶体管和GaN CmOs IC。
机译:使用相同的GaN基半导体晶体生长多晶氮化铝衬底材料制造GaN基半导体的方法和
机译:超精密磁抛光的超精密磁抛光方法和抛光浆
机译:制造GaN晶体和GaN晶体基体的方法,所获得的GaN晶体和GaN晶体基体以及包括该晶体的半导体器件
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