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隋成华;
浙江工业大学;
高斯光束; 平面器件; 表面干涉; 透射率; 反射率;
机译:FT-NIR透射率光谱中的干涉条纹引起的不确定度 - 葡萄糖水系统干扰消除技术的性能比较
机译:高真空下高温退火引起的表面声波器件中压电植物基板在高真空下引起的表面效应和挑战
机译:基于焦平面阵列相机的非平面光学器件的透射率测量
机译:温度变化引起的反铁电液晶器件特性变化的补偿方法
机译:Quadrupoles接受,透射率和离子运动的平面方法和调查
机译:在高真空下高温退火引起的表面声波器件中压电硅铜矿衬底的表面效应和挑战
机译:用光学干涉方法测量声光器件的热效应
机译:在传送带上连续散装称重-使用电子组件消除机械耦合引起的寄生效应,负载重心的运动平面
机译:测量表面粗糙度的光学技术-使用两个平面相干光波和干涉效应
机译:一种消除由于污染表面引起的质量变化的方法,一种执行该方法的设备以及一种消除表面质量变化的具有表面修饰的质量的方法
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