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193nm光刻投影物镜的研究

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摘要

为了跟踪国际光刻设备的发展,介绍了工作波长为193nm国际主流光刻机的发展现状,对光刻机的核心-投影物镜的设计原理进行了分析,针对投影物镜光学系统参数、光学结构、光学材料和机械结构进行了深入探讨,最后对中国光刻机的发展前景进行展望.

著录项

来源
《光学仪器》|2010年第3期|60-63|共4页
作者
耿康;
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作者单位

阿斯麦(天津)光刻设备有限公司上海分公司,上海,201203;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类设计;
关键词
光刻投影物镜; 光刻机; 光刻工艺;
入库时间 2023-07-25 19:46:46

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