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吴桂英;
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光刻; 集成电路; 材料; 综述; 工艺; 计量;
机译:用于193nm浸没式光刻的无面漆光刻胶
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:193nm光刻在193nm光刻形成的有效解决方案
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:超快紫外光解在193nm和其适用于蛋白质组学工作流程
机译:193nm光刻的相移掩模问题
机译:等离子沉积的甲硅烷基化抗蚀剂用于193nm光刻
机译:193nm光刻的双层感光层中的显影剂的可溶性和底部抗反射涂层
机译:显影剂可溶性碱防酸涂膜中用于193nm光刻的双层光敏性
机译:用于193NM光刻的羟基氨基热固性底漆
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